Jag undrar om riktmedelsgränserna vid chiptillverkning skulle kunna utökas om man var begränsad till att använda mindre täta mönster i periferin där fokus inte är lika skarpt. Eller om kvaliteten på fokus är radiell, kan du mönster något fler kretsar i en cirkulär form än den konventionella kvadraten som är inskriven i den. Yield talar emot allt större stansar, men det kan finnas kvardröjande kantfall där jättematriser fortfarande är mer tilltalande än chiplets.