Das US-Energieministerium hat die extrem ultraviolette Lithographietechnologie entwickelt und behält das alleinige Eigentum daran, die von ASML verwendet wird. ASML erhielt eine Lizenz vom Kongress zur Herstellung von EUVL-Maschinen. Der einzige globale Anbieter von extremen UV-Quellen, Cymer, ist ebenfalls ein US-Unternehmen.