Министерство энергетики США разработало и сохраняет исключительное право собственности на технологию экстремальной ультрафиолетовой литографии, используемую компанией ASML. ASML получила лицензию от Конгресса на производство машин EUVL. Единственным глобальным поставщиком источников экстремального УФ-излучения является компания Cymer, которая также является американской корпорацией.